[发明专利]用于电化学装置的金刚石电极无效
申请号: | 201180050405.0 | 申请日: | 2011-09-08 |
公开(公告)号: | CN103261486A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | T·P·莫拉特;J·R·布莱顿;J·J·威尔马 | 申请(专利权)人: | 六号元素有限公司 |
主分类号: | C25B11/12 | 分类号: | C25B11/12;C02F1/461;C25B11/03 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 英国马恩*** | 国省代码: | 英国;GB |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种块体硼掺杂金刚石电极,包含设置在块体硼掺杂金刚石电极的表面上的多个沟槽。通过用化学汽相沉积技术生长块体硼掺杂金刚石电极并在块体硼掺杂金刚石电极的表面上形成多个沟槽,来形成块体硼掺杂金刚石电极。根据一种配置,通过在块体硼掺杂金刚石电极的表面上形成碳溶剂金属的图案并且加热由此碳溶剂金属溶解下面的金刚石以在块体硼掺杂电极的表面上形成沟槽,来形成多个沟槽。本发明还涉及包括一个或更多个沟槽化块体硼掺杂金刚石电极的电化学单元。该块体硼掺杂金刚石电极或各块体硼掺杂金刚石电极在电化学装置内取向为使得沿基本上与电解质流动的方向平行的方向对准沟槽。 | ||
搜索关键词: | 用于 电化学 装置 金刚石 电极 | ||
【主权项】:
一种块体硼掺杂金刚石电极,包括设置在所述块体硼掺杂金刚石电极的表面中的多个沟槽,其中所述多个沟槽被图案状布置,其中每一沟槽形成连续的沟道,并且其中每一沟槽具有1μm~1mm范围的宽度和1μm~1mm范围的深度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于六号元素有限公司,未经六号元素有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180050405.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:含山茶花的酸奶及其制备方法
- 下一篇:一种带有滚轮的滑动式龙门行车及其用途