[发明专利]基于含氟化合物的光学补偿膜有效

专利信息
申请号: 201180052206.3 申请日: 2011-09-21
公开(公告)号: CN103189427A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 郑晓亮;张东;景蛟凯;弗兰克·W·哈里斯;布莱恩·迈克尔·金;泰德·格尔姆罗斯;郭钊明 申请(专利权)人: 阿克伦聚合物系统公司
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08J7/04;C08F14/18;C08L27/12;G02B5/30
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 竺路玲
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种光补偿膜组合物,该组合物包括一种聚合物膜和基片,其特征在于,所述聚合物膜具有在整个波长范围为400nm<λ<800nm下大于0.005的正双折射,膜是由聚合物溶液流延而成,该聚合物溶液含有溶剂和聚合物,聚合物含有结构式(I)所示的部分其中R1、R2、和R3各自独立的是氢原子,烷基,取代的烷基或者卤素,其中R1、R2、和R3中至少一个是氟原子,并且其中R是氢或者苯乙烯环上的取代基。
搜索关键词: 基于 氟化 光学 补偿
【主权项】:
1.一种光学补偿膜组合物,该组合物包括一种聚合物膜和基材,其中,所述聚合物膜具有的正双折射在整个波长范围为400nm<λ<800nm下大于0.005,所述膜是由聚合物溶液流延而成,该聚合物溶液含有溶剂和聚合物,聚合物含有一部分其中R1、R2、和R3各自独立的是氢原子、烷基、取代的烷基或者卤素,其中R1、R2、和R3中至少一个是氟原子,并且其中R是氢或者苯乙烯环上的取代基。
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