[发明专利]非水电解质二次电池用正极集电体的制造方法及非水电解质二次电池用正极的制造方法有效
申请号: | 201180052263.1 | 申请日: | 2011-11-04 |
公开(公告)号: | CN103403934B | 公开(公告)日: | 2016-10-19 |
发明(设计)人: | 秋山大作;石田辉和;高桥胜;矢熊纪子;大串亮;出口友香里 | 申请(专利权)人: | MEC股份有限公司 |
主分类号: | H01M4/70 | 分类号: | H01M4/70;H01M4/131;H01M4/136;H01M4/1391;H01M4/66 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 周善来;李雪春 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供可提升活性物质与集电体之间的电子传导性之非水电解质二次电池用正极集电体的制造方法、及非水电解质二次电池用正极之制造方法。本发明的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法为以蚀刻剂粗化处理铝制集电基材之表面的非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法,其特征在于:前述蚀刻剂为由包含碱源与两性金属离子之碱性水溶液系蚀刻剂、及包含三价铁离子源、二价铜离子源、锰离子源、与无机酸之三价铁离子水溶液系蚀刻剂中所选出的一种以上。 | ||
搜索关键词: | 水电 二次 电池 正极 集电体 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法,其为以蚀刻剂粗化处理铝制集电基材之表面之非水电解质二次电池用正极集电体之制造方法,前述蚀刻剂为由包含碱源与两性金属离子与硫化合物之碱性水溶液系蚀刻剂、及包含三价铁离子源、二价铜离子源、锰离子源、与无机酸之三价铁离子水溶液系蚀刻剂中所选出的一种以上蚀刻剂,前述硫化合物为由硫代硫酸离子及碳数1~7之硫化合物所选出的一种以上硫化合物,前述三价铁离子源的含量,铁离子占1.5~9.0重量%,前述二价铜离子源之含量,铜离子占0.05~1.0重量%。
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