[发明专利]用于具有负倾斜侧壁的台面结构的激光直写的系统无效
| 申请号： | 201180052361.5 | 申请日： | 2011-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN103201681A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | O·德莱亚;P·菲吉耶;Z·特比 | 申请（专利权）人： | 原子能和能源替代品委员会 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟;熊剑 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明的一般领域为光刻系统领域，该光刻系统用于应用激光剥离技术在包括一个或多个平面光敏层的平面衬底（1）上生产电子部件。根据本发明的系统是激光直写系统。其包括光学或机械装置，所述光学或机械装置配置为使光束（F）的有用部分在光敏层的平面上倾斜，以便在所述层内产生凹入剖面，所述光束的有用部分为实际上有助于产生所述剖面的光束的部分。在本发明的优选的实施方案中，该系统包括用于部分遮挡所述光束的装置（50），所述装置位于聚焦光学器件（23）附近。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 具有 倾斜 侧壁 台面 结构 激光 系统 | ||
【主权项】：
一种用于在包括一个或多个平面光敏层的平面衬底（1）上进行激光直写的系统（10），所述系统至少包括：写入激光器（20），来自所述写入激光器的光束（F）具有光线对称性；一组光学器件（23），所述光学器件用于聚焦所述光束到所述平面光敏层的平面上；用于所述平面衬底的平移移动的装置（30），其特征在于，所述系统包括光学或机械装置（50），所述光学或机械装置配置为使所述光束的有用部分在光敏层的平面上倾斜，以便在所述层内产生具有倒置斜面的剖面，所述光束的有用部分为实际上有助于产生所述剖面的所述光束的部分，聚焦光学器件的光轴垂直于所述光敏层的平面。
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