[发明专利]使用不含硅酸盐的显影剂组合物的处理方法有效
| 申请号： | 201180052462.2 | 申请日： | 2011-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN103189209A | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 墨许·雷瓦诺;江宾·黄;里欧尼德·艾斯凯斯基 | 申请（专利权）人： | 柯达公司 |
| 主分类号： | B41C1/10 | 分类号： | B41C1/10;B41N3/08;G03F7/32;B41M5/36 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 齐杨 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
本发明涉及一种用于制备光刻印刷版的方法，所述方法通过以下来实施：使具有单一可成像层的正性光刻印刷版前体显影，所述可成像层包含具有由以下结构(Ib)代表的重复单元的聚合物粘合剂：其中所述结构(Ib)的重复单元是以至少25摩尔%且至多且包括60摩尔%的量存在，所有都以所述聚合物粘合剂中的总重复单元计，且R2是经取代或未经取代的羟基芳基，其中所述羟基位于酯键邻位，从而在所述可成像层中形成曝光和非曝光区域。使用不含硅酸盐的显影剂组合物使所得成像的光刻印刷版显影，所述显影剂组合物具有至少12的pH值且包含至少0.001克原子/千克的选自由钡、钙、锶和锌阳离子组成的群组的金属阳离子M2+。 |
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| 搜索关键词： | 使用 硅酸盐 显影剂 组合 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种提供光刻印刷版的方法，其包含：A)逐图像曝光正性光刻印刷版前体，所述前体具有衬底和包含聚合物粘合剂的最外可成像层，所述聚合物粘合剂包含由以下结构(Ib)代表的重复单元：![]()
其中所述结构(Ib)的重复单元是以至少25摩尔%且至多且包括60摩尔%的量存在，所有都以所述聚合物粘合剂中的总重复单元计，且R2是经取代或未经取代的羟基芳基，其中所述羟基位于酯键邻位，从而在所述可成像层中形成曝光和非曝光区域，和B)使所得成像的光刻印刷版前体显影以移除所述可成像层的所述曝光区域，使用不含硅酸盐的显影剂组合物来实施所述显影，所述显影剂组合物具有至少12的pH值且包含至少0.001克原子/千克的选自由钡、钙、锶和锌阳离子组成的群组的金属阳离子M2+。
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