[发明专利]用于沉积含锰膜的二-吡咯-2-醛亚胺化锰前体无效
申请号: | 201180053356.6 | 申请日: | 2011-11-03 |
公开(公告)号: | CN103249863A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | C·兰斯洛特-马特拉斯 | 申请(专利权)人: | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 林柏楠;刘金辉 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: |
本发明公开了具有式(I)的含锰前体,其中R1至R5各自独立地选自H;直链或支化的C1-C4烷基;直链、支化或环状的C1-C4烷基甲硅烷基;C1-C4烷基氨基;以及直链或支化的C1-C4氟烷基。还公开了制备所述含锰前体的方法和使用所述含锰前体在基质上沉积含Mn的膜的方法。 |
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搜索关键词: | 用于 沉积 含锰膜 吡咯 亚胺 化锰前体 | ||
【主权项】:
1.一种用于在基质上沉积含锰的膜的方法,包括如下步骤:a)提供反应器和至少一种置于反应器中的基质;b)向反应器中引入至少一种具有下式的含锰前体的蒸气:
其中R1至R5各自独立地选自H;直链或支化的C1-C4烷基;直链、支化或环状的C1-C4烷基甲硅烷基;C1-C4烷基氨基;以及直链、支化或环状的C1-C4氟烷基;c)将至少部分的蒸气沉积到基质上以形成含锰的膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的