[发明专利]剂量监视装置的灵敏度修正方法及粒子射线治疗装置有效
| 申请号： | 201180053749.7 | 申请日： | 2011-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN103200991A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 大谷利宏;原田久;池田昌广;花川和之;本田泰三 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的粒子射线治疗装置包括：剂量监视装置(26)，该剂量监视装置(26)测定粒子射线的剂量；以及小型电离室(38)，该小型电离室(38)对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定，且比所述剂量监视装置(26)要小，所述粒子射线治疗装置将粒子射线进行扫描并将粒子射线照射到照射对象的照射位置，由所述剂量监视装置(26)来测定被照射出的粒子射线的剂量，由所述小型电离室(38)来对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定，并基于所述小型电离室(38)测定到的粒子射线的剂量，来求得与所述照射位置相对应的、由所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数。 | ||
| 搜索关键词： | 剂量 监视 装置 灵敏度 修正 方法 粒子 射线 治疗 | ||
【主权项】：
一种剂量监视装置的灵敏度修正方法，在该剂量监视装置的灵敏度修正方法中，粒子射线治疗装置包括：剂量监视装置，该剂量监视装置测定粒子射线的剂量；以及小型电离室，该小型电离室对通过所述剂量监视装置的粒子射线的剂量进行测定，且比所述剂量监视装置要小，所述粒子射线治疗装置将粒子射线进行扫描并将粒子射线照射到照射对象的照射位置，所述剂量监视装置的灵敏度修正方法的特征在于，由所述剂量监视装置来测定被照射出的粒子射线的剂量，由所述小型电离室对通过所述剂量监视装置的粒子射线的剂量进行测定，基于所述小型电离室所测定到的粒子射线的剂量，来求得与所述照射位置相对应的所述剂量监视装置所测定到的剂量的修正系数。
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