[发明专利]用于制备具有高度交联基质聚合物的全息介质的光聚合物制剂有效

专利信息
申请号: 201180053775.X 申请日: 2011-11-04
公开(公告)号: CN103222000A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: H.贝内特;T.罗勒;F-K.布鲁德;T.费克;M-S.魏泽;D.赫内尔 申请(专利权)人: 拜耳知识产权有限责任公司
主分类号: G11B7/245 分类号: G11B7/245;C09B69/06;C09B11/00;C09B17/00;C09B19/00;C09B21/00;C09B23/00;C09B23/04;C09B23/06;C09B23/08;C09B23/10;C09B23/14;C09B55/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种光聚合物制剂,包括多元醇组分、多异氰酸酯组分、书写单体和含有共引发剂和通式F+An-的染料的光引发剂,其中F+表示阳离子染料和An-表示阴离子,其中通式F+An-的染料具有≤ 5%的吸水性。本发明进一步涉及全息介质,特别是薄膜形式的全息介质,包括一种根据本发明的光聚合物制剂,涉及这种介质用于记录全息图的用途,以及涉及可用于根据本发明的光聚合物制剂中的特殊染料。
搜索关键词: 用于 制备 具有 高度 交联 基质 聚合物 全息 介质 制剂
【主权项】:
光聚合物制剂,包括多元醇组分、多异氰酸酯组分、书写单体和含有共引发剂和下式的染料的光引发剂F+An‑,其中F+表示阳离子染料,和An‑表示阴离子,其特征在于通式F+An‑的染料具有≤ 5%的吸水性。
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