[发明专利]提高井产率的方法有效
申请号: | 201180053826.9 | 申请日: | 2011-11-03 |
公开(公告)号: | CN103328766A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | M·加西亚-洛佩兹·德维多利亚;C·阿巴德 | 申请(专利权)人: | 普拉德研究及开发股份有限公司 |
主分类号: | E21B43/267 | 分类号: | E21B43/267;E21B33/138 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 蔡洪贵 |
地址: | 英属维尔京*** | 国省代码: | 维尔京群岛;VG |
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摘要: | 本申请公开一种处理井筒的地下地层的方法,其包括:提供大致无肉眼可见粒子的第一处理流体;以不同压力比率将所述第一处理流体泵送到所述井筒中来确定最大基质比率和最小压裂比率;高于最小压裂比率泵送所述第一处理流体以开始压裂;提供包括第二载体流体、粒子混合物的第二处理流体,所述粒子混合物包括具有在约100μm与2000μm之间的第一平均粒度的第一数量的粒子和具有比第一平均粒度小约三倍与二十倍之间的第二平均粒度的第二数量的粒子,使得粒子混合物的填充体积比超过0.74;低于最小压裂比率泵送所述第二处理流体;和容许粒子移动到裂缝中。 | ||
搜索关键词: | 提高 井产率 方法 | ||
【主权项】:
一种处理井筒的地下地层的方法,其包括:a.提供大致无肉眼可见粒子的第一处理流体;b.以不同压力比率将所述第一处理流体泵送到所述井筒中以确定最大基质比率和最小压裂比率;c.随后,高于所述最小压裂比率泵送所述第一处理流体以在所述地下地层中引发至少一个裂缝;d.提供包括第二载体流体、粒子混合物的第二处理流体,所述粒子混合物包括具有在约100μm与2000μm之间的第一平均粒度的第一数量的粒子和具有比所述第一平均粒度小约三倍与二十倍之间的第二平均粒度的第二数量的粒子,使得所述粒子混合物的填充体积比超过0.74;e.随后,低于所述最小压裂比率泵送所述第二处理流体;和f.容许所述粒子移动到所述裂缝中。
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