[发明专利]用浸润式低电感RF线圈和多尖端磁铁配置的感应耦合等离子体流体枪有效
| 申请号： | 201180055640.7 | 申请日： | 2011-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN103250228A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 彼得·F·库鲁尼西;维克多·M·本夫尼斯特;奥利佛·V·那莫佛斯奇 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 美国麻萨诸塞*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种离子布植系统中的等离子体流体枪。等离子体流体枪可包括具有一或多个孔的等离子体腔室(118)、能供应至少一种气体物质至等离子体腔室的气体源、设置于等离子体腔室里的单匝线圈(120)、及用来感应耦合射频电功率以激发等离子体腔室中至少一种气体物质以产生等离子体而耦合至线圈的电源。等离子体腔室的内表面可以是不含金属的材料，且等离子体不可暴露于等离子体腔室里任何含金属的组件。等离子体腔室可包括多个用来控制等离子体的磁铁(126)。出口孔(124)可提供于等离子体腔室中以使得产出等离子体的负电荷粒子能参与离子束，其中离子束为相关离子布植系统的部份。在一个实施例中，磁铁可被设置在孔的相对侧上，且被用于操纵等离子体的电子。 | ||
| 搜索关键词： | 浸润 电感 rf 线圈 尖端 磁铁 配置 感应 耦合 等离子体 流体 | ||
【主权项】：
一种使用于离子布植系统中的等离子体流体枪，所述等离子体流体枪包括：等离子体腔室，具有出口孔；气体源，能够供应气体物质至所述等离子体腔室；单匝射频线圈，设置于所述等离子体腔室中；以及电源，耦接于所述射频线圈以经由所述单匝射频线圈将射频电功率感应耦合至所述等离子体腔室中，以激发所述气体物质产生等离子体，其中所述出口孔具有足以允许所述等离子体的带电粒子流穿过其的宽度。
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