[发明专利]具有改善的加工的乙炔黑半导性屏蔽物材料有效

专利信息
申请号: 201180056034.7 申请日: 2011-09-16
公开(公告)号: CN103221464A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: P.J.布里甘迪 申请(专利权)人: 联合碳化化学及塑料技术有限责任公司
主分类号: C08K3/04 分类号: C08K3/04;C08L23/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 吴培善
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导性屏蔽组合物,其包括聚烯烃和乙炔黑,所述乙炔黑具有以下性质中的至少之一:(a)150ml/100g至200ml/100g的DBP油吸收;(b)85mg/g至105mg/g的碘吸收;(c)0.2g/ml至0.4g/ml的表观密度;(d)沿着(002)的微晶尺寸小于和(e)沿着(100)的碳碳键长度小于可将该半导性屏蔽物添加到半导性层和/或半导体装置中。
搜索关键词: 具有 改善 加工 乙炔 黑半导性 屏蔽 材料
【主权项】:
1.一种组合物,其包括(i)聚烯烃和(ii)乙炔黑,所述乙炔黑具有至少一种以下性质:(a)150ml/100g至200ml/100g的DBP油吸收;(b)85mg/g至105mg/g的碘吸收;(c)0.2g/ml至0.4g/ml的表观密度;(d)小于的沿着(002)的微晶尺寸;和(e)小于的沿着(100)的碳碳键长度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联合碳化化学及塑料技术有限责任公司,未经联合碳化化学及塑料技术有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180056034.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top