[发明专利]脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物及其制造方法有效
| 申请号： | 201180057560.5 | 申请日： | 2011-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN103237783A | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 佐藤幸藏;元木益司;上平茂生 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C07C61/29 | 分类号： | C07C61/29;C07C51/373;C07C67/313;C07C69/753;C08G63/187;C07B61/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 龚敏 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明公开了一种脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物，其含有选自亚甲基双脱氢枞酸及其衍生物中的两种以上的下述通式(I)所表示的脱氢枞酸衍生物。另外，本发明公开了下述通式(I)所表示的脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物的制造方法。式(I)中，X分别独立地表示羟基或碳原子数1～4的烷氧基。 |
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| 搜索关键词： | 脱氢 衍生物 位置 异构体 混合物 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种脱氢枞酸衍生物的位置异构体混合物，其含有选自亚甲基双脱氢枞酸及其衍生物中的两种以上的、下述通式(I)所表示的脱氢枞酸衍生物，![]()
式(I)中，X分别独立地表示羟基或碳原子数1～4的烷氧基。
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