[发明专利]光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法，具体地提供一种用于控制无掩模光刻设备的聚焦的系统，其中提供将可编程图案形成装置的图像投影到衬底上的投影系统。第一致动器系统配置成沿垂直于投影系统的光轴的方向移动投影系统的多个透镜中的至少一个。还设置辐射束扩束器，配置成将可编程图案形成装置的图像投影到所述透镜上。此外，提供第二致动器系统，配置成沿平行于投影系统的光轴的方向移动辐射束扩束器，以便控制投影到衬底上的图像的聚焦。

主权项

一种具有至少一个光学柱的光刻设备，包括：可编程图案形成装置，所述可编程图案形成装置配置成提供多个辐射束；和投影系统，所述投影系统配置成将多个辐射束投影到所述衬底上；其中所述投影系统包括多个透镜；和所述光学柱包括：第一致动器系统，所述第一致动器系统配置成沿垂直于所述投影系统的光轴的方向移动所述多个透镜中的至少一个透镜，以在所述衬底的目标部分之上使所述多个辐射束进行扫描；辐射束扩束器，所述辐射束扩束器配置成将所述可编程图案形成装置的图像投影到所述至少一个透镜上；和第二致动器系统，所述第二致动器系统配置成沿平行于所述投影系统的光轴的方向移动所述辐射束扩束器。