[发明专利]微图案形成方法和使用其的微通道晶体管和微通道发光晶体管的形成方法有效
| 申请号： | 201180059051.6 | 申请日： | 2011-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN103261088A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 闵盛涌;金泰植;李泰雨 | 申请（专利权）人： | 浦项工科大学校产学协力团 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82B1/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 杨黎峰;李欣 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据本发明的一个方面提供了一种形成微图案的方法。所述形成微图案的方法可包括以下步骤：在衬底上形成具有圆形截面或椭圆形截面的有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案；在形成有所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案的所述衬底的整个表面上形成材料层；和，从所述衬底上除去所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案以仅保留所述材料层的未形成有所述有机线掩模图案或有机-无机混合线掩模图案的部分。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 使用 通道 晶体管 发光 | ||
【主权项】：
一种形成微图案的方法，所述方法包括：在衬底上形成具有圆形截面或椭圆形截面的有机线掩模图案或有机‑无机混合线掩模图案；在形成有所述有机线掩模图案或有机‑无机混合线掩模图案的所述衬底的整个表面上形成材料层；和从所述衬底上除去所述有机线掩模图案或有机‑无机混合线掩模图案，以仅保留所述衬底的未形成有所述有机线掩模图案或有机‑无机混合线掩模图案的部分上的所述材料层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浦项工科大学校产学协力团，未经浦项工科大学校产学协力团许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180059051.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：片菇容积式定量灌装机
- 下一篇：一种适合残疾人载乘雪地轮滑车
