[发明专利]用于印制周期图案的方法和设备

摘要

一种用于印制特征的图案的方法包括下列步骤：提供其上设置了记录层的衬底；提供具有特征的周期图案的掩模；将衬底排列成平行于掩模并且带有具有初始值的间隔；提供用于以单色光的强度来照射掩模以生成用于对记录层进行曝光的透射光场并且在通过具有预期值的距离和以间隔变化率来改变间隔的同时将掩模照射某个曝光时间的照射系统，其中间隔变化率和光线强度中的至少一个在间隔变化期间改变，由此掩模通过随所述距离而改变的间隔每一递增变化上的能量密度来照射。

主权项

一种用于印制特征的图案的方法，包括下列步骤：a)提供其上设置了记录层的衬底；b)提供具有特征的周期图案和特征的准周期图案中的至少一个的掩模；c)将所述衬底排列成与所述掩模基本上平行并且具有第一预期值的初始间隔；d)提供用于采用基本上单色并且基本上准直的光线来照射所述掩模的照射系统，所述光线具有某个强度，使得由所述掩模所透射的光场对所述记录层进行曝光；以及e)将所述掩模照射某个曝光时间，同时以间隔变化率来将所述间隔改变第二预期值，其中所述间隔变化率和所述光线强度中的至少一个随间隔变化而改变，使得所述掩模通过随变化间隔而改变的间隔每一递增变化上的能量密度来照射；由此，在所述记录层中印制的所述图案对所述初始间隔与所述第一预期值的偏差以及对所述间隔变化与所述第二预期值的偏差具有低敏感性。