[发明专利]两性聚合物及其制造方法有效
申请号: | 201180060215.7 | 申请日: | 2011-12-14 |
公开(公告)号: | CN103339159A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 米田淳郎;道尧大祐 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本触媒 |
主分类号: | C08F216/12 | 分类号: | C08F216/12 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供具有高防污垢再沉积能力和与面活性剂溶解性的两性聚合物,以及用于制造所述两性聚合物的方法。所述两性聚合物包含:源自含有阳离子基团的单体(A)的结构单元(a);和源自含有羧基的单体(B)的结构单元(b)。在所述两性聚合物中,以源自所有单体的所有结构单元为100质量%计,所述结构单元(a)的存在量为1质量%~99质量%,并且在所述两性聚合物中,以源自所有单体的所有结构单元为100质量%计,所述结构单元(b)的存在量为1质量%~99质量%。 | ||
搜索关键词: | 两性 聚合物 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种两性聚合物,所述两性聚合物包含:源自含有阳离子基团的单体(A)的结构单元(a);和源自含有羧基的单体(B)的结构单元(b),所述含有阳离子基团的单体(A)由式(1)或式(1’)表示:[化学图示1]其中,R0表示H或CH3;R1表示CH2、CH2CH2或直接键合;R2、R3和R4各自表示C1-20有机基团,并且R2、R3和R4各自可以彼此相同或不同;R5和R6各自表示H或C1-20有机基团,并且可以彼此相同或不同;Y1表示C2-20亚烷基,并且各个Y1可以彼此相同或不同;n表示氧化亚烷基(-Y1-O-)的平均加成摩尔数,并且为1~300;X-表示反荷阴离子,其中,在所述两性聚合物中,以源自所有单体的所有结构单元为100质量%计,所述结构单元(a)的存在量为1质量%~99质量%,并且在所述两性聚合物中,以源自所有单体的所有结构单元为100质量%计,所述结构单元(b)的存在量为1质量%~99质量%。
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