[发明专利]蒸发源、蒸发室、涂覆方法以及喷嘴板有效
| 申请号： | 201180060285.2 | 申请日： | 2011-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN103261468A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | F·乌尔默;C·戈贝特;H·察赫曼;J·勒斯勒尔;H·许勒尔;F·许贝尔;O·莱费尔德 | 申请（专利权）人： | 太阳能光电股份公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人： | 王昭林;颜海峰 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及蒸发源(1,1’)、蒸发室（20）、涂覆方法以及喷嘴板（4）。根据本发明的蒸发源(1,1’)可以在真空条件下于硒气氛中生成高而稳定的质量流率，使层厚度均匀性改善。此外，可以相对于衬底支承调节蒸发源(1,1’)的分子束方向，其中该衬底支承位于所述蒸发源(1,1’)之上。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 方法 以及 喷嘴 | ||
【主权项】：
一种线型蒸发源（1,1’,1’’,1’’’;50;60），其尤其用于真空沉积装置，该线型蒸发源包括：至少一个蒸发材料容器（2），所述蒸发材料容器包括用于接收所述蒸发材料的凹陷部（3），至少一个热源，和一个沿所述线型蒸发源（1,1’,1’’,1’’’;50;60）的纵向（L）延伸的喷嘴，和/或至少两个沿所述线型蒸发源（1,1’,1’’,1’’’;50;60）的纵向（L）间隔开布置的喷嘴，其中，所述喷嘴分别包括至少一个蒸气释放开口（5a，5b，5c），其中，所述蒸发材料容器（2）具有容器轴线（A，A’），其特征在于，所述至少一个蒸气释放开口（5a，5b，5c）包括至少两个壁部分（8,9,10,11），所述至少两个壁部分优选地基本垂直于所述纵向延伸部（L）而延伸，并且所述至少两个壁部分被定向为和/或能定向为彼此不平行，其中，所述蒸气释放开口（5a，5b，5c）的两个壁部分（8,9,10,11）被构造呈圆锥形，尤其被构造呈非对称圆锥形扩张。
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