[发明专利]用于电子元件的冷却系统及方法有效
申请号: | 201180061192.1 | 申请日: | 2011-11-30 |
公开(公告)号: | CN103299128A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 伊斯特万·巴克 | 申请(专利权)人: | 特里多尼克詹纳斯多尔夫有限公司 |
主分类号: | F21V29/02 | 分类号: | F21V29/02;F04F7/00;F21K99/00;H01L23/467;F21Y101/02 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 杨黎峰;李欣 |
地址: | 奥地利詹*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种用于电子元件(4)的冷却系统(1)。所述冷却系统(1)包括用于生成循环气压波动的装置(7),其中所述电子元件(4)远离压力生成装置(7)。装置(5)(优选地为例如孔的限制部)位于所述电子元件(4)的附近,所述装置(5)受循环气压波动的影响且生成循环空气射流(6)。所述空气射流(6)影响所述电子元件(4)的表面,并且由于空气射流(6)直接源于所述电子元件(4)的附近,因此实现有效的热传递。优选地,所述压力生成装置(7)在腔室(2)内部产生压力Pc,且通过基板(3)的孔(5)生成湍流空气射流(6),电子元件(4)安装在所述基板上。 | ||
搜索关键词: | 用于 电子元件 冷却系统 方法 | ||
【主权项】:
一种用于电子元件(4)的冷却系统(1),包括:用于生成循环气压波动的压力生成装置(7),其中,所述电子元件(4)远离压力生成装置(7);位于所述电子元件(4)的附近的装置(5),所述装置将所述循环气压波动转换为循环空气射流(6),循环空气射流(6)被布置成用于增大在所述电子元件(4)的表面处的热传递。
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