[发明专利]涡流测量装置中的密度校正的方法有效

专利信息
申请号: 201180063390.1 申请日: 2011-11-23
公开(公告)号: CN103282749B 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 马克·霍尔马赫;萨沙·坎伯 申请(专利权)人: 恩德斯+豪斯流量技术股份有限公司
主分类号: G01F1/32 分类号: G01F1/32
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 张焕生,谢丽娜
地址: 瑞士,*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种用于确定流经涡流测量装置(2)的测量管(4)的至少有时至少二相的介质的质量流量的方法。在此情况中,所述测量管(4)在测量横截面中具有至少一个用于产生涡旋的非流线形体(8),并且记录所产生涡旋的传感器确定介质在所述测量横截面的区域中的流速。本方法涉及根据以下的项确定介质在所述测量横截面的区域中的密度介质在所述测量横截面的区域中的总比焓;介质在所述测量横截面的区域中的流速;介质在所述测量横截面的区域中的静态压力;和介质在所述测量横截面的区域中的静态温度。另外,根据介质在所述测量横截面中的所确定的流速、所确定的密度和流量横截面,确定所述质量流量。
搜索关键词: 涡流 测量 装置 中的 密度 校正 方法
【主权项】:
用于确定流经涡流测量装置(2;26)的测量管(4;28)的至少有时至少二相的介质的质量流量的方法,其中所述测量管(4;28)在测量横截面(36)中具有至少一个用于产生涡旋的非流线形体(8;30),并且其中,在所述测量横截面(36)的区域中,所述涡流测量装置包括:温度传感器(48)和压力传感器(50),所述温度传感器(48)用于记录所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的静态温度,所述压力传感器(50)用于记录所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的静态压力,以及为了记录所产生的涡旋,所述涡流测量装置包括布置在所述非流线形体(8)下游的至少一个涡旋传感器,所述方法包括:记录所产生的涡旋,用以确定所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的流速;记录所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的静态压力和静态温度;根据下述的项确定所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的密度:所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的总比焓,所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的流速,所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的静态压力和所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的静态温度;以及根据所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的所确定的流速、所确定的密度和流量横截面,确定质量流量,其中,所述介质包括至少一种材料,至少在一部分可能过程条件的情况下,所述材料在所述测量横截面(36)的区域中按第一质量份额以第一相存在,并且按该材料的其余的第二质量份额以第二相存在,其特征在于,下列的至少一个:所述第一相的所述材料在所述测量横截面(36)的区域中的比焓;所述第二相的所述材料在所述测量横截面(36)的区域中的比焓;所述第一相的所述材料在所述测量横截面(36)的区域中的密度;以及所述第二相的所述材料在所述测量横截面(36)的区域中的密度,是根据所述介质在所述测量横截面(36)的区域中存在的所述静态压力,以及根据所述介质在所述测量横截面(36)的区域中存在的所述静态温度来确定的,并且被用于确定所述介质在所述测量横截面(36)的区域中的所述密度。
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