[发明专利]一氧化钼层及其借助PVD的制备有效
| 申请号： | 201180063789.X | 申请日： | 2011-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN103270188A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | J.拉姆;B.维德里希;K.格伦茨;F.赛贝特 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康贸易股份公司（特吕巴赫） |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/32;C23C14/34;C23C30/00;C23C14/54 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 石克虎;林森 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及包含至少一个具有氧化钼的含钼层的涂层，其中该氧化钼基本上是一氧化钼。本发明也涉及制备本发明的涂层的PVD方法，其中借助电弧蒸发来制备含有一氧化钼的层。本发明也涉及具有上述涂层的构件。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化钼 及其 借助 pvd 制备 | ||
【主权项】：
包含至少一个具有氧化钼的含钼层的涂层，其特征在于，该氧化钼基本上是一氧化钼。
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