[发明专利]一种耐指纹镀膜方法及装置无效
| 申请号： | 201180064089.2 | 申请日： | 2011-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN103282541A | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 金润泽 | 申请（专利权）人： | 珐珂斯株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/40;C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人： | 崔征 |
| 地址： | 韩国京畿道*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及耐指纹表面镀膜方法及装置，其中，取代现有的电子束蒸镀法，将交流等离子体（AC Plasma）改质法以及热蒸镀法进行复合使用，从而提高生产效率，更为具体地，本发明涉及耐指纹镀膜方法，其包括如下步骤：a）使用交流等离子体法，从而蒸镀SiOx（x为1.5-2.0）薄膜，以及b）在上述SiOx薄膜所蒸镀的器件表面通过热蒸镀（Thermal evaporation）对氟化合物进行蒸镀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 指纹 镀膜 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种耐指纹镀膜方法，其包括如下步骤：a）使用交流等离子体法，从而蒸镀SiOx（x为1.5‑2.0）薄膜，以及b）在上述SiOx薄膜所蒸镀的器件表面通过热蒸镀（Thermal evaporation）对氟化合物进行蒸镀。
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