[发明专利]用于PVD阵列应用的多方向跑道旋转阴极有效
| 申请号： | 201180065117.2 | 申请日： | 2011-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103314130B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | E·谢尔;M·哈尼卡;R·林德伯格;M·班德尔;A·洛珀;K·施沃恩特兹;F·皮耶拉利西;J·刘 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/35;H01J37/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种用于溅射沉积装置的阴极组件（130、200、300、400）以及用于涂布基板的方法。阴极组件具有用于在基板上涂布的涂布侧。此外，阴极组件包括旋转靶组件，所述旋转靶组件适合于围绕旋转轴（220、320、420）旋转靶材料（210、310、410）；至少一个第一磁体组件（230、330、340、430、431、432、433），所述至少一个第一磁体组件具有内部磁极和至少一个外部磁极且适于产生一个或多个等离子体区（240、250、340、350、440、441、442、443）。阴极组件（130、200、300、400）具有对于一个磁极的第一角坐标，将所述磁极提供用于所述涂布侧；以及对于另一磁极的第二角坐标，将所述磁极提供用于涂布侧；其中第一角坐标（260、360、460）和第二角坐标（270、370、461）界定大于约20度且小于约160度的角度α。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 pvd 阵列 应用 多方 跑道 旋转 阴极 | ||
【主权项】：
一种用于溅射沉积装置的阴极组件，所述阴极组件具有用于在基板上涂布的涂布侧，所述阴极组件包含：旋转靶组件，所述旋转靶组件适合于围绕旋转轴旋转靶材料；至少一个第一磁体组件，所述至少一个第一磁体组件相对于所述旋转轴保持在固定位置，并且所述至少一个第一磁体组件具有内部磁极和至少一个外部磁极且适于产生一个或多个等离子体区；所述阴极组件具有对于一个内部磁极的第一角坐标，将所述内部磁极提供用于所述涂布侧；以及对于另一内部磁极的第二角坐标，将所述内部磁极提供用于所述涂布侧；其中所述第一角坐标和所述第二角坐标界定大于20度且小于160度的角度α，所述阴极组件进一步包含：第二磁体组件，所述第二磁体组件具有所述另一内部磁极和至少一个外部磁极且适于产生一个或多个等离子体区，其中所述第一磁体组件的所述内部磁极被提供在所述第一角坐标处，且所述第二磁体组件的所述另一内部磁极被提供在所述第二角坐标处。
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