[发明专利]光排列一体式大面积金属印模的制造方法及利用其的高分子光元件的制造方法有效
| 申请号： | 201180065152.4 | 申请日： | 2011-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN103328175A | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 郑命永;吴承勳;柳震和;曹相煜;李泰镐 | 申请（专利权）人： | 釜山国立大学校产学协力团 |
| 主分类号： | B29C33/38 | 分类号： | B29C33/38;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 王玉双 |
| 地址： | 韩国釜*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种光排列一体式大面积金属印模的制造方法及利用其的高分子光元件的制造方法，其通过制造用于与光纤的自动排列技术的光纤支撑用沟槽图案和PLC（Planar Lightwave Circuit，平面光波导）图案构成一体式的大面积印模，使之具有大面积高效率，为了制造大面积金属印模，其包括：形成单位元件PLC模具图案，通过利用上述PLC模具图案的多段压印方法来成型单位PLC元件图案的步骤；进行热处理以最小化表面粗糙度引起的散射损失的步骤；制作用以支撑光纤的沟槽图案的步骤；通过排列上述单位PLC元件图案和沟槽图案来制作单位元件用一体式PDMS模具的步骤；通过反复复制上述单位元件用一体式PDMS模具来形成大面积PDMS图案，利用大面积PDMS图案，通过电铸镀金来制作大面积印模的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 排列 体式 大面积 金属 印模 制造 方法 利用 高分子 元件 | ||
【主权项】：
一种光排列一体式大面积金属印模的制造方法，其用以制造大面积金属印模，以制作高分子光元件，其特征在于，包括：形成单位元件PLC模具图案，并通过利用所述PLC模具图案的多段压印方法来成型单位PLC元件图案的步骤；进行热处理以最小化表面粗糙度引起的散射损失的步骤；制作用以支撑光纤的沟槽图案的步骤；通过排列所述单位PLC元件图案和沟槽图案来制作单位元件用一体式PDMS模具的步骤；通过反复复制所述单位元件用一体式PDMS模具来形成大面积PDMS图案，利用大面积PDMS图案，并通过电铸镀金来制作大面积印模的步骤。
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