[发明专利]光电元件及其制造方法在审
| 申请号： | 201180065837.9 | 申请日： | 2011-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN103339747A | 公开（公告）日： | 2013-10-02 |
| 发明（设计）人： | 杨鸿志;谢明勋;许明祺 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/16 | 分类号： | H01L33/16;H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 吕晓章 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种光电元件及其制造方法。光电元件包含：一个基板(101)；以及一个过渡迭层(102)，位于基板(101)之上。过渡迭层(102)包含至少一个具有第一孔洞结构(p1)的第一过渡层(1021)，位于基板(101)之上；以及一个具有第二孔洞结构(p2)第二过渡层(1022)，位于第一过渡层(1021)之上。第一孔洞结构(p1)的宽度或密度与第二孔洞结构(p2)的宽度或密度不同。 | ||
| 搜索关键词： | 光电 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司，未经晶元光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180065837.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
