[发明专利]使用承载器扩展的晶圆加工有效
申请号: | 201180067942.6 | 申请日: | 2011-12-21 |
公开(公告)号: | CN103502508A | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
发明(设计)人: | 博扬·米特洛维奇;魏光华;埃里克·A·阿莫;阿吉特·帕兰杰佩 | 申请(专利权)人: | 维易科仪器公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;H01L21/687 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 倪小敏 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 采用绕轴旋转的晶圆承载器来加工晶圆的装置设置有环,环在操作过程中包围晶圆承载器。引导至承载器的上表面的加工气体背离轴向外流过承载器和环,并且向下游流至环的外侧。向外流动的气体形成了承载器和环上的边界层。环有助于在承载器上保持边界层的厚度大体上一致,这能够促进一致地加工晶圆。 | ||
搜索关键词: | 使用 承载 扩展 加工 | ||
【主权项】:
一种反应器,包括:(a) 腔体,所述腔体具有壁结构,所述壁结构界定出内表面;(b) 心轴,所述心轴被设置在所述腔体内并且能够绕上游‑下游轴旋转,所述心轴用于支撑晶圆承载器以绕所述轴旋转,从而使得所述承载器的上表面在承载器位置面向上游方向;(c) 环,所述环被安装在所述腔体内,所述环具有面向所述上游方向的上表面,所述环被构造和设置成,当所述反应器处于操作状态时,所述环紧密地包围被支撑在所述心轴上的晶圆承载器,并且所述环的上表面大体上与所述承载器的上表面连续。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的