[发明专利]半导体集成电路装置无效

专利信息
申请号: 201180074485.3 申请日: 2011-10-31
公开(公告)号: CN103890929A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 林幸太郎;西村英敏 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L21/82 分类号: H01L21/82
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 樊建中
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种半导体集成电路装置,其中,第二单元(CL2)与具有基准单元高度的N倍(N为2以上的整数)的单元高度的第一单元(CL1)在单元宽度方向上邻接。在第二单元(CL2)的供电用金属布线(101)之下形成由杂质扩散区域形成的扩散布线(102)。第一单元(CL1)具有以横跨金属布线(101)的单元宽度方向上的延长区域的方式与扩散布线(102)相对置形成的晶体管扩散区域(D_MP23)。扩散布线(102)在单元宽度方向上与单元边界(BL1)相间隔地配置。
搜索关键词: 半导体 集成电路 装置
【主权项】:
一种半导体集成电路装置,其配置了多个单元,上述多个单元包括:第一单元,其是具有基准单元高度的N倍的单元高度的多高度单元,N为2以上的整数;以及第二单元,其在单元宽度方向上与上述第一单元相邻配置,上述第二单元具有:第一金属布线,其在单元高度方向上的一端,以沿单元宽度方向延伸的方式配置;以及第一扩散布线,其由在上述第一金属布线之下以沿单元宽度方向延伸的方式形成的杂质扩散区域形成,并经由接点与上述第一金属布线连接,上述第一单元具有:第一晶体管扩散区域,其在单元宽度方向上与上述第一扩散布线相对置,且以在单元高度方向上横跨上述第一金属布线的单元宽度方向上的延长区域的方式形成,并构成晶体管,上述第一扩散布线在单元宽度方向上,与上述第一单元和上述第二单元之间的单元边界相间隔地配置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180074485.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top