[发明专利]发光装置无效
| 申请号： | 201180074641.6 | 申请日： | 2011-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN103918348A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 黑田和男 | 申请（专利权）人： | 日本先锋公司 |
| 主分类号： | H05B33/02 | 分类号： | H05B33/02;H01L51/50;H05B33/24 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 吕俊刚;刘久亮 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种发光装置包括：光透射性基板(10)，其具有光提取面和形成在该光提取面的相对侧上的凹凸面；反射膜(20)，其部分地覆盖所述凹凸面；高折射率层(30)，其被设置在所述光透射性基板(10)上，并且将所述凹凸面和所述反射膜(20)的表面作为界面，所述高折射率层的折射率高于光透射性基板(10)的折射率；有机功能层(50)，其包括被设置在所述高折射率层(30)上的发光层；以及反射电极(60)，其被设置在有机功能层(50)上。各个反射膜(20)形成相对于所述光提取面倾斜并被设置为沿着所述光透射性基板(10)与所述高折射率层(30)之间的界面的光反射面。沿着所述光透射性基板(10)与所述高折射率层(30)之间的界面形成有相对于发光层的延伸面倾斜的光透射面。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 | ||
【主权项】：
一种发光装置，该发光装置包括：光透射性基板，其具有光提取面和形成在该光提取面的相对侧上的凹凸面；第一光反射膜，其部分地接触所述凹凸面；高折射率层，其被设置在所述光透射性基板上，以将所述凹凸面和所述第一光反射膜的表面作为界面，所述高折射率层的折射率高于所述光透射性基板的折射率；有机功能层，其包括被设置在所述高折射率层上的发光层；以及第二光反射膜，其被设置在所述有机功能层上，其中，所述第一光反射膜在所述光透射性基板与所述高折射率层之间的各个界面处形成相对于所述光提取面倾斜的光反射面，并且其中，在所述光透射性基板与所述高折射率层之间的界面处，形成有相对于所述发光层的延伸面倾斜的光透射面。
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