[其他]气体生成装置以及使用了该气体生成装置的装置有效
申请号: | 201190000744.3 | 申请日: | 2011-07-12 |
公开(公告)号: | CN203238334U | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 棚桥正治;近藤宏惠;棚桥正和;登祥子 | 申请(专利权)人: | 棚氏处理有限公司 |
主分类号: | C25B9/00 | 分类号: | C25B9/00;C25B1/02;C25B3/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘文海 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本实用新型的装置通过对放入到第一槽及第二槽(11、12)内的水性液体(25)进行电解而生成气体。该装置包括:隔板(23);隔着隔板(23)相连的第一槽及第二槽(11、12);配置于第一槽(11)的第一电极(21);配置于第二槽(12)的第二电极(22)。第一槽及第二槽(11、12)具有如下的形状,即:在水性液体(25)的电解中,在第二槽(12)内的气体的压力变得比第一槽(11)内的气体的压力高时,限制第二槽(12)内的水性液体(25)的液面的下降的形状。 | ||
搜索关键词: | 气体 生成 装置 以及 使用 | ||
【主权项】:
一种气体生成装置,通过对放入到第一槽及第二槽内的水性液体进行电解而生成气体, 所述气体生成装置的特征在于,包括: 隔板; 隔着所述隔板相连的所述第一槽及第二槽; 配置于所述第一槽的第一电极; 配置于所述第二槽的第二电极, 所述第一槽及第二槽具有如下的形状,即:在所述水性液体的电解中,在所述第二槽内的气体的压力变得比所述第一槽内的气体的压力高时,限制所述第二槽内的所述水性液体的液面的下降的形状。
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