[发明专利]一种高透明耐磨耐刮擦PC材料及其制备方法无效
申请号: | 201210003374.X | 申请日: | 2012-01-06 |
公开(公告)号: | CN102585475A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 王晶;王凯;张天荣;李杰;王健 | 申请(专利权)人: | 聚威工程塑料(上海)有限公司 |
主分类号: | C08L69/00 | 分类号: | C08L69/00;C08K5/5415;C08K5/5435;C08K5/20;B29C47/92 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201615 上海市松江*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及高分子热塑性材料改性领域,具体涉及一种高透明耐磨耐刮擦PC材料的改性配方及其制备方法,其改性配方由按重量份计算的以下物质组成:PC90-98份,耐刮擦剂1-5份,润滑剂0.5-3份,抗氧剂0.5-2份。本发明提供的改性PC配方在对PC树脂的力学性能和透明性能改变不大的基础上提高了其表面硬度,扩大了其在耐磨耐刮擦工程塑料领域的应用。本发明耐磨耐刮擦PC材料流动性极佳,制备工艺简单。 | ||
搜索关键词: | 一种 透明 耐磨 耐刮擦 pc 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高透明耐磨耐刮擦PC材料的制备,其特征在于,由按重量份计算的以下物质组成:(1)PC树脂 90‑98份(2)耐刮擦剂 1‑5份(3)润滑剂 0.5‑3份(4)抗氧剂 0.5‑2份其中,所述PC树脂为为高透明高流动性PC基础树脂,其熔融指数为20~30g/10min;所述耐刮擦剂为带有活性基团的硅氧烷,其活性基团为羟基、环氧基、羧基等有机基团中的一种或几种。
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