[发明专利]用于制版光刻设备的动态稳定性测量方法

摘要

本发明属于制版光刻技术领域，具体涉及一种用于制版光刻设备的动态稳定性测量方法。本方法将掩模板固定在平台上，并在掩模板上制作多个定位标记；然后选一定位标记，记录此定位标记中心与CCD相机视场中心重合时的平台坐标；以此坐标为中心，使载物平台做移出和回位运动，当载物平台回位后，计算出此定位标记中心与CCD相机视场中心之间的中心偏移量；重复多次得到多个中心偏移量，对多个中心偏移量通过算法计算出与该定位标记中心相对应的重复定位精度值；对每个定位标记重复上述步骤，得到与多个定位标记中心分别对应的重复定位精度值；再对多个重复定位精度值计算出系统动态重复定位精度值。本发明测量精度高，易于装调且测量成本较低。

主权项

一种用于制版光刻设备的动态稳定性测量方法，其特征在于包含如下步骤：1)、将掩模板固定在载物平台上，并在掩模板上制作P(P＞1)个定位标记；2)、选择其中一个定位标记，将所述定位标记成像于制版光刻设备中的CCD相机视场内，并通过图像处理技术对定位标记进行处理和计算，以得出所述定位标记的中心与CCD相机视场中心的偏移量，然后移动载物平台，使所述定位标记的中心移动至与CCD相机视场中心相重合，并记录此时载物平台的空间物理坐标；3)、以载物平台的空间物理坐标为中心，使载物平台在CCD相机的视场内做移出和回位运动，也即先使载物平台自其空间物理坐标处向外移动一段距离，待载物平台停稳后，再使载物平台重新移动至其空间物理坐标处；当载物平台重新移动至其空间物理坐标处后，通过CCD相机采集定位标记的图像，并计算出定位标记的中心与CCD相机视场中心之间的中心偏移量；4)、使载物平台在CCD相机的视场内重复做移出和回位运动，则得到多个中心偏移量，对得到的多个中心偏移量通过数理统计算法而计算出与该定位标记的中心相对应的重复定位精度值；5)、对每个定位标记重复2)～4)步骤，以得到与P个定位标记的中心分别对应的重复定位精度值；6)、最后对P个重复定位精度值通过数理统计算法而计算得出此光刻系统的动态重复定位精度值。