[发明专利]控制晶圆生产过程异常的自动缺陷扫描抽检方法及装置有效

专利信息
申请号: 201210009226.9 申请日: 2012-01-12
公开(公告)号: CN102709206A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 王洲男;龙吟;倪棋梁;陈宏璘 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 陆花
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种控制晶圆生产过程异常的自动缺陷扫描抽检方法及装置。根据本发明的控制晶圆生产过程异常的自动缺陷扫描抽检方法包括:在线异常检测步骤,用于执行显性异常检测和隐性异常检测,从而在晶圆的生产过程中对生产线的显性异常和隐形异常进行检查,并记录出现显性异常和/或隐形异常的晶圆;以及固定抽检步骤,用于在晶圆处理之后执行固定抽检。所述固定抽检步骤所抽检的晶圆包括在所述在线异常检测步骤记录的出现显性异常和/或隐形异常的晶圆。
搜索关键词: 控制 生产过程 异常 自动 缺陷 扫描 抽检 方法 装置
【主权项】:
一种控制晶圆生产过程异常的自动缺陷扫描抽检方法,其特征在于包括:在线异常检测步骤,用于执行显性异常检测和隐性异常检测,从而在晶圆的生产过程中对生产线的显性异常和隐形异常进行检查,并记录出现显性异常和/或隐形异常的晶圆;以及固定抽检步骤,用于在晶圆处理之后执行固定抽检。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210009226.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top