[发明专利]蒸镀用掩模板的制备方法在审
| 申请号： | 201210010684.4 | 申请日： | 2012-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103205673A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;潘世珎;郑庆靓 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C25D1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种蒸镀用掩模板的制备方法，主要解决现有OLED制造技术中，蒸镀时有机颗粒由于掩模板开口壁的遮蔽而无法达到基板的技术问题，本发明通过采用一种蒸镀用掩模板的制备方法，所述蒸镀用掩模板形状为四边形的金属板，所述掩模板具有ITO面层和蒸镀面层两层结构，所述掩模板上具有贯通ITO面层和蒸镀面层的开口，ITO面层的开口尺寸小于蒸镀面层的开口尺寸，沿掩模板的厚度方向的横向剖面上，ITO面层开口形状为梯形、蒸镀面层开口形状为矩形的技术方案，较好地解决了该问题，可用于有机发光二级管的工业生产中。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀用掩 模板 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种蒸镀用掩模板的制备方法，采用电镀工艺，包括如下几个步骤：a) 选取厚度为15～200μm金属或合金薄板，其上具有梯形开口，通过电铸工艺制得蒸镀用掩模板的ITO面层，掩模板的均匀性小于5%，表面光亮度为一级光亮；b) 对掩模板ITO面层进行二次电铸，在原有开口的基础上形成一层具有开口的加厚层，即为蒸镀面层；其中，所述掩模板形状为四边形的金属板，所述掩模板具有ITO面层和蒸镀面层两层结构，所述掩模板上具有贯通ITO面层和蒸镀面层的开口，ITO面层的开口尺寸小于蒸镀面层的开口尺寸，沿掩模板的厚度方向的横向剖面上，ITO面层开口形状为梯形。
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