[发明专利]蒸镀用狭长沟槽掩模板无效
申请号: | 201210010699.0 | 申请日: | 2012-01-16 |
公开(公告)号: | CN103205686A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 魏志凌;高小平;郑庆靓 | 申请(专利权)人: | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种蒸镀用狭长沟槽掩模板,主要解决现有OLED制造技术中,蒸镀时有机颗粒由于掩模板开口壁的遮蔽而无法达到基板的技术问题,本发明通过采用一种蒸镀用狭长沟槽掩模板,形状为四边形金属板,包括与铟锡氧化物(ITO)面接触的ITO面和蒸镀面两个面,所述掩模板上具有贯通铟锡氧化物面(ITO面)和蒸镀面的狭长沟槽,在ITO面上的狭长沟槽开口尺寸小于在蒸镀面上的狭长沟槽状开口尺寸的技术方案,较好地解决了该问题,可用于有机发光二级管的工业生产中。 | ||
搜索关键词: | 蒸镀用 狭长 沟槽 模板 | ||
【主权项】:
一种蒸镀用狭长沟槽掩模板,形状为四边形金属板,包括与铟锡氧化物(ITO)面接触的ITO面和蒸镀面两个面,所述掩模板上具有贯通ITO面和蒸镀面的狭长沟槽开口,在ITO面上的狭长沟槽开口和在蒸镀面上的狭长沟槽开口中心重合,所述狭长沟槽开口相互间隔且相互平行; ITO面上的狭长沟槽开口面积小于在蒸镀面上的狭长沟槽开口面积。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山允升吉光电科技有限公司,未经昆山允升吉光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210010699.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:吸尘装置及薄壁管材微加工装置
- 下一篇:家用器具
- 同类专利
- 专利分类