[发明专利]一种微影制作方法在审
| 申请号： | 201210010745.7 | 申请日： | 2012-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103207525A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;赵录军;陈龙英 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种微影制作方法，包括步骤：S10：选择芯模，选定一种材料及合适厚度的芯模，以解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题；S11：确定不同种类干膜对应的曝光量，对于不同厚度干膜的曝光量，通过采用41节曝光尺的曝光实验来确定；S12：确定显影参数。本发明微影制作方法以合适厚度的芯模来解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题。确定不同种类干膜对应的曝光量以及显影参数来达到最佳产品质量。提高显影质量，提高了芯模表面质量以及使用次数，贴膜、曝光、显影以最优组合搭配参数提高产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作方法 | ||
【主权项】：
一种微影制作方法，其特征在于，包括如下步骤：S10：选择芯模，选定一种材料及合适厚度的芯模，以解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题；S11：确定不同种类干膜对应的曝光量，对于不同厚度干膜的曝光量，通过采用41节曝光尺的曝光实验来确定；S12：确定显影参数。
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