[发明专利]一种掩模板的曝光处理方法有效
| 申请号： | 201210010747.6 | 申请日： | 2012-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103207527A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;潘世珎;陈龙英 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种掩模板的曝光处理方法，包括如下步骤：S10：将贴好干膜的基板放入曝光机内的曝光基台上，通过真空气孔固定基板，使基板平整紧贴于曝光基台，选择低能量曝光值的曝光能量参数，进行曝光；S11：将曝光后的基板放入烤箱，设置烘烤温度和时间，进行烘烤；S12：烘烤结束后，进行显影工序，将未曝光的干膜显影去除。本发明采用低能量曝光加烘烤的工艺方法，有效的减少了占用曝光机的时间，防止低限能量曝光不足，可以提高生产效率，并且可以防止高限曝光产生的散光扩大造成开口变形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模板 曝光 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种掩模板的曝光处理方法，其特征在于，包括如下步骤：S10：将贴好干膜的基板放入曝光机内的曝光基台上，通过真空气孔固定基板，使基板平整紧贴于曝光基台，选择低能量曝光值的曝光能量参数，进行曝光；S11：将曝光后的基板放入烤箱，设置烘烤温度和时间，进行烘烤；S12：烘烤结束后，进行显影工序，将未曝光的干膜显影去除。
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