[发明专利]一种有效提高蒸镀质量的掩模板及其制备工艺无效
| 申请号： | 201210010782.8 | 申请日： | 2012-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103205700A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;郑庆靓 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C22C38/08;C23F1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提出一种有效提高蒸镀质量的掩模板，包括该掩模板包括掩模板本体，掩模板本体上设有图案开口，所述掩模板本体的材质为4J36因瓦合金。该掩模板采用4J36因瓦合金，该种材料具有因瓦效应的反常热膨胀，其平均膨胀系数一般为1.5×10-6℃，含镍在36%是达到1.8×10-8℃，且在室温-80℃～+100℃时均不发生变化，因此采用该材料的掩模板在蒸镀室内的变形量很小，这样就可有效减小图案开口尺寸精度偏差，以及图案开口位置精度偏差，有效提高蒸镀质量，提高有机蒸镀材料的成膜率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 有效 提高 质量 模板 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
一种有效提高蒸镀质量的掩模板，包括掩模板本体，所述掩模板本体上设有图案开口，其特征在于：所述掩模板本体的材质为4J36因瓦合金。
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