[发明专利]曝光装置、曝光方法以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201210012709.4 | 申请日： | 2004-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN102495540A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 长坂博之 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 崔成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，通过隔着液体把规定图案的像投影到基板上来曝光基板，该曝光装置包括：把上述图案的像投影到基板上的投影光学系统；为了在包含投影光学系统的投影区域的一部分基板上形成液浸区域而向基板上提供液体的液体供给机构；在离开投影区域的回收位置上进行基板上的液体回收的液体回收机构；被配置在相对投影区域由液体回收机构进行的液体回收位置的外侧且形成有捕捉液体的液体收集面的收集部件。
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