[发明专利]利用强制对流对薄膜装置进行均匀热处理的设备及方法

摘要

本申请提供了一种利用强制对流对薄膜装置进行均匀热处理的设备和方法。所述设备包括：包围填充有工作气体的管状空间的室和设置于室外部的加热器。设备进一步包括装载构造，用于使多个平面状基板经受管状空间中的工作气体。在装载构造的上方和下方设置有隔离件。

主权项

一种对薄膜材料进行均匀热反应处理的设备，所述设备包括：室，包围一管状空间，沿轴向从第一端区域水平地延伸至第二端区域附近，所述管状空间填充有工作气体；至少一个加热器，设置于所述室的外部周边处以提供热能用于加热所述室；装载构造，用于使多个基板经受所述管状空间中的所述工作气体，所述多个基板中的每一个均在空间上布置为与每个相邻基板有一间隔；第一隔离件，设置于所述装载构造上方；第二隔离件，设置于所述装载构造下方，所述第二隔离件位于所述第一隔离件下方一距离处；第三隔离件，在所述装载构造前方设置得邻近所述第一端区域；以及吹送装置，设置于所述第三隔离件与所述装载构造之间，所述吹送装置面向所述轴向并且具有的径向尺寸基本上等于所述第一隔离件与所述第二隔离件之间的距离。