[发明专利]半导体制造装置及半导体基板接合方法无效
申请号: | 201210018300.3 | 申请日: | 2012-01-19 |
公开(公告)号: | CN102610492A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 谷田一真;本乡悟史;山口直子;高桥健司;沼田英夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L27/146 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘瑞东;陈海红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供半导体制造装置及半导体基板接合方法。根据实施例的半导体制造装置,具备:第1部件,保持第1半导体基板;第2部件,保持第2半导体基板,使接合面与第1半导体基板的接合面相对向;距离检测单元,检测第1半导体基板的接合面和第2半导体基板的接合面的距离;调节单元,调节第1半导体基板的接合面和第2半导体基板的接合面的距离;第3部件,在第1半导体基板和第2半导体基板之间形成接合开始点。 | ||
搜索关键词: | 半导体 制造 装置 接合 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体制造装置,其使具有接合面的第1及第2半导体基板的上述接合面彼此一点接触,形成接合开始点,使上述接合从上述接合开始点向周围扩展,全面接合上述第1半导体基板和上述第2半导体基板,其具备:第1部件,其保持上述第1半导体基板;第2部件,其保持上述第2半导体基板,使上述第2半导体基板的接合面与在上述第1部件保持的上述第1半导体基板的接合面相对向;距离检测单元,其检测在上述第1部件保持的上述第1半导体基板的接合面和在上述第2部件保持的上述第2半导体基板的接合面的距离;调节单元,其根据上述距离检测单元的检测结果,使上述第1及第2部件的至少一方移动,将上述第1半导体基板的接合面和上述第2半导体基板的接合面的距离调节为预定值;和第3部件,其从上述第2部件间隔预定距离而设置,对上述第1及第2半导体基板的一方的与上述接合面相反侧的面的一点加压,在上述第1半导体基板和上述第2半导体基板之间形成上述接合开始点。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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