[发明专利]化学气相沉积设备的反应腔室无效

专利信息
申请号: 201210019424.3 申请日: 2012-01-21
公开(公告)号: CN103074602A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 梁秉文 申请(专利权)人: 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 314300 浙江省嘉兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明实施例提供一种化学气相沉积设备的反应腔室,包括:基座,所述基座用于放置衬底;至少两个喷淋头,与基座相对设置,所述喷淋头用于向所述衬底提供反应气体,每个喷淋头下方至少可以放置一个衬底。本发明解决了反应腔室中的大尺寸的喷淋头难以加工、大尺寸喷淋头的成本偏高的问题,并且与反应腔室内设置单一的喷淋头相比,本发明在反应腔室内设置两个以上喷淋头,能够改善衬底上的反应气体的分布的均匀度,提高了形成的外延层的均匀度。
搜索关键词: 化学 沉积 设备 反应
【主权项】:
一种化学气相沉积设备的反应腔室,其特征在于,包括:基座,所述基座用于放置衬底;至少两个喷淋头,与基座相对设置,所述喷淋头用于向所述衬底提供反应气体,每个喷淋头下方至少可以放置一个衬底。
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