[发明专利]高透光性低辐射镀膜玻璃无效

专利信息
申请号: 201210021271.6 申请日: 2012-01-31
公开(公告)号: CN102584030A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 林嘉宏 申请(专利权)人: 林嘉宏
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 中国台湾台北市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种高透光性低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基底和形成在玻璃基底上的膜系。其中,所述膜系自玻璃基底向外依次包括第一膜层组合层、功能层和第二膜层组合层,所述第一膜层组合层、第二膜层组合层中均至少包括一Si膜层,所述第一膜层组合层的第一Si膜层和所述第二膜层组合层的第二Si膜层分别位于所述功能层的上下两侧并紧邻所述功能层,所述功能层为Ag层。本发明的玻璃膜系可在无氧条件下沉积,能够有效的避免镀膜玻璃功能层的氧化,并且本发明膜层结构简单、膜系粘附力强、易于沉积,具有高可见光透过率和低辐射率的优点。
搜索关键词: 透光 辐射 镀膜 玻璃
【主权项】:
一种高透光性低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基底和形成在所述玻璃基底上的膜系,其特征在于:所述膜系自玻璃基底向外依次包括第一膜层组合层、功能层和第二膜层组合层,所述第一膜层组合层、第二膜层组合层中均至少包括一Si膜层,所述第一膜层组合层具有第一Si膜层,所述第二膜层组合层具有第二Si膜层,第一膜层组合层的第一Si膜层和第二膜层组合层的第二Si膜层分别位于所述功能层的上下两侧并紧邻功能层,所述功能层为Ag层。
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