[发明专利]电磁波照射装置以及图像形成装置有效
| 申请号： | 201210022407.5 | 申请日： | 2012-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN102627035A | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 藤泽和利;林义光 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/21 | 分类号： | B41J2/21;B41J29/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够实现与液滴种类相适应的表面光泽度的电磁波照射装置和图像形成装置。该电磁波照射装置具备：对附着于记录介质的液滴照射电磁波的照射器；照射控制单元，其使所述电磁波周期性地照射，使得使所述照射器照射所述电磁波的周期即照射周期的频率变为预定频率；和期间设定单元，其将照射期间的长度除以停止期间的长度所得的期间比率设定为0.2以上且2以下，所述照射期间是在所述照射周期内使所述照射器照射所述电磁波的期间，所述停止期间是在所述照射周期内不使所述照射器照射所述电磁波的期间。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁波 照射 装置 以及 图像 形成 | ||
【主权项】：
一种电磁波照射装置，其特征在于，具备：对附着于记录介质的液滴照射电磁波的照射器；照射控制单元，其使所述电磁波周期性地照射，使得使所述照射器照射所述电磁波的周期即照射周期的频率变为预定频率；和期间设定单元，其将照射期间的长度除以停止期间的长度所得的期间比率设定为0.2以上且2以下，所述照射期间是在所述照射周期内使所述照射器照射所述电磁波的期间，所述停止期间是在所述照射周期内不使所述照射器照射所述电磁波的期间。
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