[发明专利]大幅面介质阻挡放电等离子体表面处理系统无效
| 申请号： | 201210023522.4 | 申请日： | 2012-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN102869180A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 汤文杰;褚庭亮;俞朝晖;陈立强 | 申请（专利权）人： | 中国印刷科学技术研究所 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 100036*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种大幅面介质的阻挡放电等离子体表面处理系统，在阻挡放电等离子体处理组件的上方设有臭氧吸收装置。所述的阻挡放电等离子体处理组件包括接地辊筒、电极板和输气装置，接地辊筒的主轴两端转动支撑在机架上，在接地辊筒的上面装有一对弧面与接地辊筒同轴心的并与该接地辊筒外周面留有相等放电间距的电极板，在该电极板内设有水冷通道和与其两端连接的循环水接口；在两个电极板之间装有输气装置。本发明处理强度强、处理时效性长、且具有臭氧吸收或催化分解能力，适合于大幅面的金属、薄膜、皮革等大多数包装材料，可实现不同速度在线式处理的等离子体表面处理。 | ||
| 搜索关键词： | 大幅面 介质 阻挡 放电 等离子体 表面 处理 系统 | ||
【主权项】：
一种大幅面介质阻挡放电等离子体表面处理系统，包括等离子体处理组件，其特征在于，所述的等离子体处理组件为介质阻挡放电等离子体处理组件。
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