[发明专利]采用等离子技术制备抗感染医用材料的方法有效
| 申请号： | 201210027387.0 | 申请日： | 2012-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN103242550A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 张维;季君晖 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | C08J7/12 | 分类号： | C08J7/12;D06M10/00 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 张文祎 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了采用等离子技术制备抗感染医用高分子材料的方法；该方法是在真空条件下首先将医用高分子材料浸泡在氩等离子体中，然后将氮等离子体和银等离子体注入到医用材料表面，最终得到具有表面抗感染性医用高分子材料；本方法操作简单，不影响材料本体的物理化学结构，处理后得到的高分子材料表面结构稳定，具有长效、广谱的抗感染性能。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 等离子 技术 制备 感染 医用 材料 方法 | ||
【主权项】：
采用等离子技术制备抗感染医用高分子材料的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)在密封真空度为1.0×10‑2～1.0×10‑5Pa条件下，将医用高分子材料置于氩等离子体中0.001～2小时；(2)将氮等离子体注入到医用高分子材料表面，与高分子链发生反应，生成含氮官能基团，得到抗感染医用高分子材料；其中，所述氮等离子体是N2和/或NH3发生等离子体化生成的氮等离子体；氮等离子体的注入剂量为1.0×1015～5.0×1022ions/cm2，注入深度为0.001～3μm。
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