[发明专利]光酸产生剂、其制备方法及包含光酸产生剂的抗蚀剂组合物

摘要

本发明涉及光酸产生剂、其制备方法及包含光酸产生剂的抗蚀剂组合物。本发明提供由下式(1)表示的光酸产生剂、制备所述光酸产生剂的方法，以及包含所述光酸产生剂的抗蚀剂组合物：[化学式1]其中在式(1)中，Y、X、R₁、R₂、n₁、n₂和A⁺具有与本发明详述中相同的定义。所述光酸产生剂在ArF浸液式光刻法时可保持合适的接触角，可减少浸液式光刻法过程中出现的缺陷，在抗蚀剂溶剂中具有优异的溶解性，并且与树脂的相容性很好。此外，所述光酸产生剂可使用工业易得的环氧化合物，通过有效且简单的方法进行制备。

主权项

1.由下式(1)表示的光酸产生剂：[化学式1]其中，在式(1)中，Y表示选自烷基、烯基、烷氧基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基中的任一基团；X表示选自亚烷基、亚烯基、NR’、S、O、CO及它们的组合中的任一基团；而R’表示选自氢原子和烷基中的任一基团；R₁和R₂各自独立地表示选自氢原子、烷基、烷氧基、全氟烷基、全氟烷氧基、卤素、羟基、羧基、氰基、硝基、氨基和硫代基中的任一基团；n₁表示1或2的整数；n₂表示0-5的整数；并且A⁺表示有机反荷离子。