[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201210028871.5 | 申请日： | 2012-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN103246170A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 伍强;郝静安;刘畅;姚欣;李天慧;舒强;顾一鸣 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种曝光装置及曝光方法，所述曝光装置包括：载物台，所述载物台包括第一区域和与第一区域对应的第二区域，所述载物台还包括位于第一区域的第一基底夹持器和位于第二区域的第二基底夹持器；光学投影单元，位于载物台上方，对第一基底夹持器或第二基底夹持器上的基底进行曝光；第一对准检测单元和第二对准检测单元，第一对准检测单元和第二对准检测单元对称的分布在光学投影单元的两侧，第一对准检测单元用于检测第一基底夹持器上的基底的对准标记，第二对准检测单元用于检测第二基底夹持器上的基底的对准标记。本发明实施例的曝光装置实现载物台的准确定位，提高曝光装置的产量。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，包括：载物台，所述载物台包括第一区域和与第一区域对应的第二区域，所述载物台还包括位于第一区域的第一基底夹持器和位于第二区域的第二基底夹持器；光学投影单元，位于载物台上方，对第一基底夹持器或第二基底夹持器上的基底进行曝光；第一对准检测单元和第二对准检测单元，第一对准检测单元和第二对准检测单元对称的分布在光学投影单元的两侧，第一对准检测单元用于检测第一基底夹持器上的基底的对准标记，第二对准检测单元用于检测第二基底夹持器上的基底的对准标记。
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