[发明专利]成膜装置

摘要

本发明提供一种成膜装置。与分别形成有用于向反应管内供给Zr系气体、O3气体等处理气体的气体喷射口的第1体喷射器及第2气体喷射器相对独立地形成第3气体喷射器，在该第3气体喷射器上，沿着反应管的长度方向形成有狭缝，在切换处理气体时，通过从该狭缝向反应管内供给吹扫气体而该置换反应管内的气氛气体。

主权项

一种成膜装置，其通过将分层保持有多张基板的基板保持器送入到在周围配置有加热部的立式的反应管内而对基板进行成膜处理，其特征在于，该成膜装置包括：第1气体喷射器，其针对各基板之间的高度位置分别形成有用于向基板供给第1处理气体的多个气体喷射口；第2气体喷射器，为了向基板供给与第1处理气体反应的第2处理气体，该第2气体喷射器在上述反应管的周向上与上述第1气体喷射器分开地设置，该第2气体喷射器沿着上述反应管的长度方向延伸且在靠基板侧形成有气体喷射口；第3气体喷射器，其在上述反应管的周向上与上述第1气体喷射器分开的位置以沿着上述反应管的长度方向延伸的方式设置，该第3气体喷射器从被保持在上述基板保持器中的基板的保持区域的上端一直到下端地形成有吹扫气体供给用的狭缝；排气口，其隔着上述保持区域形成在与上述第1气体喷射器相反一侧，用于排出上述反应管内的气氛气体；控制部，其用于输出控制信号，以便向上述反应管内依次供给第1处理气体及第2处理气体，并且在切换这些处理气体时向上述反应管内供给吹扫气体而置换该反应管内的气氛气体。