[发明专利]去除掩模版上雾状缺陷的装置及方法有效
| 申请号： | 201210029062.6 | 申请日： | 2012-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN103246159A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 顾婷婷;施维;田明静;古宏宽 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种去除掩模版上雾状缺陷的装置，包括腔体、位于腔体上的第一进气通路和第一排气通路、以及设置于腔体内的掩模版夹持装置和激光光源，其中，所述第一进气通路、第一排气通路和激光光源在所述掩模版夹持装置的同一侧。一种去除掩模版上雾状缺陷的方法，包括：将待去除雾状缺陷的掩模版加载至掩模版夹持装置上，所述待去除雾状缺陷的掩模版上加载有保护膜，所述保护膜与激光光源相对；使所述待去除雾状缺陷的掩模版的温度达到预定温度，并通过第一进气通路向腔体提供保护气体，通过激光照射所述待去除雾状缺陷的掩模版。本发明提供的去除掩模版上雾状缺陷的装置及方法，改善缩短了去除雾状缺陷的周期，降低工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 模版 雾状 缺陷 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种去除掩模版上雾状缺陷的装置，其特征在于，包括腔体、位于腔体上的第一进气通路和第一排气通路、以及设置于腔体内的掩模版夹持装置和激光光源，其中，所述第一进气通路、第一排气通路和激光光源在所述掩模版夹持装置的同一侧。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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