[发明专利]一种高温高湿条件下佛甲草栽培混合基质有效
| 申请号： | 201210030116.0 | 申请日： | 2012-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN102577915A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 何一王;何茜莹;徐玲;汤聪 | 申请（专利权）人： | 广州市东篱环境艺术有限公司 |
| 主分类号： | A01G31/00 | 分类号： | A01G31/00 |
| 代理公司： | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人： | 周克佑 |
| 地址： | 510620 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种高温高湿条件下适合佛甲草生长的栽培混合基质，本发明旨在公开一种在高温高湿条件下，佛甲草仍可以较正常生长的栽培混合基质，此栽培混合基质成本低、环保卫生，排水和持水能力均衡协调，在高温高湿条件下仍能适合佛甲草的生长。栽培混合基质的主要构成为园林废弃物、珍珠岩、椰糠，按照园林废弃物：珍珠岩：椰糠=8：1：1的比例进行混合。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高温 条件下 佛甲草 栽培 混合 基质 | ||
【主权项】：
一种高温高湿条件下佛甲草栽培混合基质，其原料组成及体积配比如下：园林废弃物 4‑8 珍珠岩 0.5‑1.5 椰糠 0.5‑1.5 混合均匀即得。
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