[发明专利]ITO-卤化铟双层导电膜及其制备方法有效
申请号: | 201210030181.3 | 申请日: | 2012-02-10 |
公开(公告)号: | CN103243296A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 周明杰;王平;陈吉星;黄辉 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35;H05B33/10 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 何平 |
地址: | 518100 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于导电薄膜领域,其公开了一种ITO-卤化铟双层导电膜及其制备方法;该双层导电膜包括ITO层和卤化铟层;其中,ITO层中,In2O3质量百分含量为80~97%,SnO2的质量百分含量为3~20%;卤化铟中的卤素选自F、Cl或Br。本发明采用磁控溅射设备,制备ITO-卤化铟双层导电膜,其在450~790nm波长范围可见光透过率85%~90%,方块电阻范围20~90Ω/□,表面功函数5.5~6.1eV。 | ||
搜索关键词: | ito 卤化 双层 导电 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种ITO‑卤化铟双层导电膜,其特征在于,该双层导电膜包括ITO层和卤化铟层;其中,ITO层中包括In2O3和SnO2,且In2O3质量百分含量为80~97%,SnO2的质量百分含量为3~20%;卤化铟层的材质为卤化铟,其化学式为InA3,A为卤素,选自F、Cl或Br。
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